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通用CVD設備 MPCVD-50

發(fā)布時間： 2023-10-16　　點擊次數(shù)： 926次

通用CVD設備 MPCVD-50 是一種多功能管式爐式熱CVD設備，適用于各種應用，例如CNT合成、碳膜形成、納米陶瓷膜形成、氮化以及硫族化物膜形成等。
該設備具有以下特點和功能：
多功能應用：MPCVD-50 可用于合成碳納米管（CNT）、在粉末樣品上沉積碳以及沉積各種CVD薄膜，如硫族化物層狀材料的氮化處理和成膜等。它的多功能性能使其適用范圍廣泛。
氣體控制系統(tǒng)：設備配備三個質量流量氣體流量控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)精確的氣體控制。這樣，用戶可以根據(jù)需要精準地控制反應氣體的流量和比例，確保反應的質量和可重復性。
液體燃料引入系統(tǒng)：MPCVD-50 設備還配備了液體燃料（如乙醇）的引入系統(tǒng)，可應用于無法安裝碳氫化合物氣體的場所。這樣，用戶可以在不受氣體限制的情況下進行實驗和研究。
高度可擴展性：設備具有高度可擴展性，可以輕松處理任何類型的處理需求。無論是在研究還是生產(chǎn)環(huán)境中，MPCVD-50 都能適應不同規(guī)模和應用的需求。
具備標配真空排氣系統(tǒng)：設備標配真空排氣系統(tǒng)，可用作真空爐、氣氛爐等。這樣，用戶可以根據(jù)需要在不同的氣氛條件下進行反應和處理，并且具備更大的靈活性。
緊湊堅固的外殼設計：MPCVD-50 設備采用緊湊堅固的外殼設計，易于安裝在桌面實驗室工作臺等上。其精心設計的結構確保設備的穩(wěn)定性和可靠性。
此外，MPCVD-50 設備還配備了其他重要組件和功能，如管式爐、可編程溫度控制器、質量流量控制器、波登管真空計、旋轉泵等。這些組件和功能的整合使得設備操作簡便，效果穩(wěn)定可靠。
總而言之，通用CVD設備 MPCVD-50 具備多功能的應用特性，適用于各種氣相沉積需求。其精確的氣體控制系統(tǒng)和液體燃料引入系統(tǒng)確保了精準的實驗和研究結果。設備的高度可擴展性和緊湊堅固的外殼設計使其成為實驗室和生產(chǎn)環(huán)境中的理想選擇。

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