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日本acti-ve臺(tái)式拋光機(jī)ACT-220AII：實(shí)驗(yàn)室高效拋光實(shí)用技術(shù)

發(fā)布時(shí)間： 2025-09-23　　點(diǎn)擊次數(shù)： 108次

在材料科學(xué)、半導(dǎo)體制造和光學(xué)研究等領(lǐng)域，高精度的拋光工藝是確保實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)成功的關(guān)鍵因素之一。日本acti-ve推出的ACT-220AII臺(tái)式拋光機(jī)以其性能和廣泛的應(yīng)用，成為實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)的理想選擇。
突出特點(diǎn)
高精度控制：ACT-220AII提供0-7000rpm的旋轉(zhuǎn)速度范圍，精度高達(dá)±1rpm，確保薄膜的均勻性，滿(mǎn)足不同材料和工藝的需求。
多段式程序控制：具備10步程序控制和100種模式記憶功能，可靈活設(shè)置不同工藝參數(shù)，適應(yīng)多樣化的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)需求。
安全保護(hù)：配備安全蓋，帶有磁性傳感器，當(dāng)安全蓋打開(kāi)時(shí)，無(wú)法啟動(dòng)程序，旋轉(zhuǎn)中打開(kāi)安全蓋，機(jī)器將自動(dòng)停止旋轉(zhuǎn)，確保操作安全。
真空吸附：真空吸附功能可牢固固定基板，防止在拋光過(guò)程中移位，提高拋光效果的穩(wěn)定性。
緊湊設(shè)計(jì)：外形尺寸為W250×D330×H272mm，重量約18kg，占地面積小，便于在實(shí)驗(yàn)室中靈活擺放。
應(yīng)用領(lǐng)域
半導(dǎo)體制造：用于半導(dǎo)體晶片的拋光，確保表面平整度和清潔度，提高芯片的性能和可靠性。
太陽(yáng)能電池生產(chǎn)：在太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中，對(duì)硅片進(jìn)行拋光處理，提升光電轉(zhuǎn)換效率。
光學(xué)透鏡加工：對(duì)光學(xué)透鏡進(jìn)行高精度拋光，提高透鏡的光學(xué)性能，減少光散射和反射。
納米技術(shù)與生物醫(yī)學(xué)：在納米材料和生物醫(yī)學(xué)研究中，對(duì)樣品進(jìn)行精細(xì)拋光，為后續(xù)的分析和實(shí)驗(yàn)提供高質(zhì)量的樣品。
液晶顯示器制造：用于LCD面板的拋光，確保顯示效果的均勻性和清晰度。
實(shí)驗(yàn)與研究：在高校和科研機(jī)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)室中，用于各種材料的拋光實(shí)驗(yàn)，為科研工作提供有力支持。
日本acti-ve臺(tái)式拋光機(jī)ACT-220AII以其高性能、高精度和廣泛的應(yīng)用場(chǎng)景，成為實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)生產(chǎn)中的設(shè)備。無(wú)論是半導(dǎo)體制造、光學(xué)加工還是納米技術(shù)研究，ACT-220AII都能提供可靠的拋光解決方案，助力科研和生產(chǎn)的發(fā)展。

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