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日本HORIBA堀場隔膜式真空計VG-200S：高精度真空測量

發(fā)布時間： 2025-10-13　　點擊次數(shù)： 42次

在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中，精確的壓力測量對于許多工藝流程至關重要，尤其是在真空環(huán)境下的應用。日本HORIBA堀場推出的隔膜式真空計VG-200S，以其高精度、高穩(wěn)定性和緊湊設計，成為眾多行業(yè)的理想選擇。
一、VG-200S的核心技術與特點
（一）電容式測量原理
VG-200S采用電容式測量原理，通過檢測膜片兩側壓力差引起的位移量來測量壓力。這種原理使得VG-200S在測量精度和穩(wěn)定性上表現(xiàn)出色，同時對氣體類型具有獨立性，不受氣體種類影響。
（二）高精度與高穩(wěn)定性
VG-200S的測量精度包括非線性、滯后性和不可重復性在內(nèi)的總誤差為0.25%R.S.，分辨率達到0.01%F.S。其獨特的電極結構和自動溫度控制功能，確保了在不同環(huán)境下的穩(wěn)定性能。
（三）緊湊設計與自動溫度控制
VG-200S具有緊湊的自加熱設計，尺寸小巧，便于安裝和使用。自動溫度控制功能使其能夠在不同環(huán)境溫度下保持穩(wěn)定的測量性能，這對于一些對溫度敏感的應用尤為重要。
（四）耐腐蝕性與耐用性
VG-200S的隔膜等氣體接觸部件采用SUS316L材質(zhì)，具有良好的耐腐蝕性，能夠在苛刻的工業(yè)環(huán)境中長期穩(wěn)定運行。
（五）一鍵歸零與用戶友好性
VG-200S配備一鍵歸零功能，簡化了操作流程，提高了使用的便捷性。此外，其電源要求為±15VDC或24VDC，兼容性強，符合CE和RoHS標準。
二、VG-200S的應用領域
（一）半導體制造
在半導體制造過程中，精確的壓力控制對于保證產(chǎn)品質(zhì)量至關重要。VG-200S的高精度和穩(wěn)定性使其成為半導體制造中真空工藝的理想選擇。
（二）平板顯示器與光伏面板
在平板顯示器和光伏面板的生產(chǎn)中，VG-200S能夠精確測量工藝腔室內(nèi)的氣體壓力，確保生產(chǎn)過程的順利進行。
（三）真空技術
在真空鍍膜、真空冶金等真空技術領域，VG-200S的高精度和高穩(wěn)定性為工藝的精確控制提供了堅實的保障。
（四）化工行業(yè)
化工生產(chǎn)中常常涉及各種腐蝕性介質(zhì)，VG-200S的耐腐蝕性能使其能夠有效抵御化學腐蝕，延長設備使用壽命，同時提供可靠的壓力測量數(shù)據(jù)。
三、總結
日本HORIBA堀場的隔膜式真空計VG-200S以其高精度、高穩(wěn)定性、緊湊設計和良好的耐腐蝕性，成為現(xiàn)代工業(yè)中真空壓力測量的可靠選擇。無論是在半導體制造、平板顯示器、光伏面板生產(chǎn)還是化工和真空技術領域，VG-200S都能為工藝控制和質(zhì)量保證提供有力支持。

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日本HORIBA堀場隔膜式真空計VG-200S：高精度真空測量

一、VG-200S的核心技術與特點

（一）電容式測量原理

（二）高精度與高穩(wěn)定性

（三）緊湊設計與自動溫度控制

（四）耐腐蝕性與耐用性

（五）一鍵歸零與用戶友好性

二、VG-200S的應用領域

（一）半導體制造

（二）平板顯示器與光伏面板

（三）真空技術

（四）化工行業(yè)

三、總結

三、總結