我們的每種產(chǎn)品都有其自己的特性，但是由于其設(shè)計(jì)，TB系列的應(yīng)用范圍非常廣泛，從高純氣體中的微量氧氣到真空氣氛以及燃燒廢氣中的氧氣測量。
除了內(nèi)置N 2 PSA和O 2 PSA內(nèi)置產(chǎn)品外，我們還提供除常規(guī)氧氣測量外的功能產(chǎn)品，例如預(yù)混合氣體分析儀，高溫氣體濕度計(jì)和氧氣泵，以滿足用戶的需求。需要，我正在做到。

氧化鋯陶瓷由于在電池的內(nèi)表面和外表面上的氧分壓不同而成為一個(gè)產(chǎn)生電壓（電池電壓）的氧濃縮電池，當(dāng)氧氣被紅色加熱時(shí)，氧離子很容易在晶體結(jié)構(gòu)中移動。
通過使電解池內(nèi)部的氣氛與外部的樣品氣體接觸，可以基于氣氛中的氧濃度產(chǎn)生電壓。這可以由以下公式表示。

E是由氧化鋯陶瓷產(chǎn)生的電壓（mV），T是電池的溫度，并且大氣中的氧氣濃度是恒定的，因此，如果電池溫度恒定，則電池電壓也是恒定的。
樣品氣體中的氧氣濃度可以通過反算來獲知。
因此，當(dāng)檢測池的兩側(cè)都處于大氣中時(shí)，池電壓理論上變?yōu)?mV，并且隨著樣品氣體的氧氣濃度相對于大氣降低，池電壓升高。

金屬的熱處理過程或還原過程是對陶瓷燒結(jié)的還原氣氛，傳感器H2氣氛中為TB，H2 +惰性氣體，CO / CO，2大氣中2 H2-1 / 2 O，2 H2O，CO + 1/2 O 2 ⇔CO 2 1×10 ^ -20 ATMO引起從解離2以測量氧分壓的下面，⇔還原氧化的判斷中，可以執(zhí)行氣氛管理。
（“ DG-R”系列適用于高精度還原氣氛測量。）

該儀器測量樣氣的氧氣分壓。
因此，即使氣體中的氧濃度相同，如果壓力變化，也會根據(jù)該壓力產(chǎn)生氧分壓的電動勢。
例如，如果將大氣（約21％O 2）減壓至1 Torr，則大氣壓為760 Torr ，因此可以獲得21 x 1/760 = 0.027％O 2的指令。
TB-IIF在CVD排氣管線中的記錄為1×10 ^ -3托，而TB-IIV在直接安裝真空爐中的記錄為1×10 ^ -6托。

CO + H2％可以通過在m值（空燃比）為1的燃燒條件下從CO + H2 / CO 2 + H2O解離生成的氧分壓測量為10 ^ -10或更小來測量。或更少的直接燃燒氣氛爐中。
由于1％（CO + H2）+ 0.5％O 2 = 1％（CO + H2O），因此1％（CO + H2）可用-0.5％O 2代替，并以-O 2％的范圍表示。
另外，如果目標(biāo)是m值為1的等效燃燒，我們可以以零點(diǎn)為中心制造-02％到0到+ 02％的范圍

當(dāng)將氧化鋯圓盤加熱至恒定溫度并向鉑電極施加恒定電壓時(shí)，由于泵浦作用，以氧離子為載體的電流流過，帽中的氧被釋放，并且與氧平衡的電流會從小孔中擴(kuò)散出來，并會流動。（請參閱下面的圖1和圖2）
與該氧氣濃度變化相對應(yīng)的電流變化被放大，并通過儀表中的折線軟件線性化以顯示氧氣濃度。