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日本Atomax極細(xì)二流體噴嘴AM系列：電子元件制造薄膜生成的精準(zhǔn)解決方案

發(fā)布時(shí)間： 2025-08-25　　點(diǎn)擊次數(shù)： 195次

在電子元件制造領(lǐng)域，薄膜生成技術(shù)對(duì)于提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能至關(guān)重要。日本Atomax公司推出的AM系列極細(xì)二流體噴嘴，憑借其高精度霧化能力和靈活的流量控制，為電子元件制造中的薄膜生成提供了高效的解決方案。
高精度霧化技術(shù)
AM系列噴嘴能夠生成平均粒徑約5μm的超細(xì)顆粒，適用于極薄膜層的噴涂。這種高精度霧化技術(shù)確保了薄膜的均勻性和一致性，減少了噴涂缺陷，如滴落或涂層不均。AM系列噴嘴的粒徑分布窄，霧化均勻，適用于從厚涂層到超薄膜層的多樣化需求。
適應(yīng)高粘度與復(fù)雜液體
AM系列噴嘴采用外部混合渦流設(shè)計(jì)，液體流路為直通結(jié)構(gòu)，可處理漿料、乳液等高粘度液體，且不易堵塞。這種設(shè)計(jì)支持含固體顆粒的液體（如金屬膏）的連續(xù)噴涂，適用于電子元件制造中的多種復(fù)雜液體。
結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且維護(hù)便捷
AM系列噴嘴結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，僅由兩個(gè)組件構(gòu)成，無O型圈或過濾器，拆卸清潔方便，適合高頻率使用環(huán)境。材質(zhì)可選SUS316L或高強(qiáng)度黃銅，耐腐蝕性強(qiáng)，適用于高溫或化學(xué)腐蝕環(huán)境。
節(jié)能與低成本
AM系列噴嘴霧化所需的壓縮空氣量比傳統(tǒng)噴嘴減少15%-70%，降低了能耗。同時(shí)，減少液體消耗（如脫模劑用量減少30%以上），進(jìn)一步降低了生產(chǎn)成本。
靈活性與適應(yīng)性
AM系列噴嘴體積小巧，可安裝在狹窄空間（如模具內(nèi)部或自動(dòng)化產(chǎn)線末端）。同一噴嘴可通過調(diào)節(jié)氣液比例，實(shí)現(xiàn)從超細(xì)顆粒到粗霧滴的多場(chǎng)景切換，適應(yīng)不同的噴涂需求。
應(yīng)用場(chǎng)景
半導(dǎo)體晶圓精密噴涂：AM系列噴嘴能夠以極低的流量均勻噴涂光刻膠，替代傳統(tǒng)的旋涂工藝，減少材料浪費(fèi)并提高工藝靈活性。
電子元件及功能材料制造：適用于電子元件制造過程中的薄膜形成、噴涂、鍍膜等，確保薄膜的均勻性和性能一致性。
科學(xué)和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域的微量噴涂：在科學(xué)研究和醫(yī)學(xué)實(shí)驗(yàn)中，AM系列噴嘴能夠?qū)崿F(xiàn)微量液體的精確噴涂，適用于藥物涂層、生物材料噴涂等場(chǎng)景。
日本Atomax的AM系列極細(xì)二流體噴嘴以其高精度霧化、適應(yīng)高粘度液體、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、節(jié)能和低成本等優(yōu)勢(shì)，為電子元件制造中的薄膜生成提供了高效、可靠的解決方案，有助于提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。

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日本Atomax極細(xì)二流體噴嘴AM系列：電子元件制造薄膜生成的精準(zhǔn)解決方案

高精度霧化技術(shù)

適應(yīng)高粘度與復(fù)雜液體

結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單且維護(hù)便捷

節(jié)能與低成本

靈活性與適應(yīng)性

應(yīng)用場(chǎng)景